超声波清洗设备未来的发展趋势

超声波清洗设备未来的发展趋势

1.需求高效经济的清洗专用设备

伴随着超声波清洗设备的应用范围拓展，超声波清洗设备面对新科技急需创新。针对新技术，新材料，新产品的涌现，设计专用超声波清洗设备应该具有：优异的性价比，与其他清洗方式能高效组合，有一定的自动化程度。

2．发展超声波碳氢真空清洗设备

环境保护是我国的一项基本国策，清洗行业以前所沿用的ODS有机溶剂被禁止，因此，需要研发使用非ODS溶剂的新型清洗设备。经济环保的碳氢溶剂超声波清洗设备凸显其优越性能。由于碳氢溶剂闪点低，限制了其在超声波清洗方面的作用。在引入超声波碳氢真空清洗技术后，不仅达到了安全环保的目的，而且在真空状态下进行超声波碳氢清洗还强化了洁净功能，大理发展碳氢真空清洗已成为今后环保型超声波清洗的发展方向。

3．研发高频超声波清洗设备

目前工业上大量使用的为低中频段的超声波清洗机，也即20~50KHZ频段，而现在急需研发0~200KHZ高频以及兆赫级超声波清洗设备。

兆赫级超声波清洗技术有以下的主要优点：一是避免对器件表面清洗时带来损伤，而是更加精准地去除附着在器件表面的亚微米级的污垢。

兆赫级超声波清洗设备目前已经存在，产品主要来自国外，我国研制的兆赫级超声波清洗设备还未从实验室走向工程应用。兆赫级超声波清洗设备主要应用在半导体生产线，用于对100~300mm硅片的清洗，既可以出去硅片表面0.15μm的颗粒，又可以组织漂洗过程中颗粒的重新附着。可见，兆赫级超声波清洗设备已经是大规模集成电路制造生产过程中必不可少的。

4.开拓超声波清洗特殊应用

超声波清洗通常是对零部件的清洗，随着工艺的不断完善，出现了一些特殊应用，如超声波防垢在线清洗等。超声波防垢清洗主要是利用超声波强声场处理流体，使流体中成垢物质在超声场的作用下，其物理形态和化学性能发生一系列的变化，使之分散、粉碎、松散、松脱而不易附着管、器壁形成积垢。超声波强声场处理流体不仅有防垢的作用，而且能加快液体表面传热速率，提高液体的传热效率，这些新应用的出现更大地发挥了超声波清洗的功能，近年来，雷士超声波设备厂在开拓超声波应用新领域方面做出了极大贡献。

5.超声波清洗设备智能化，集成化

随着工业产品向微型化、智能化、寿命长、高可靠性发展，在“互联网+制造”的大变局中，超声波清洗技术也与时俱进，在工业生产与社会生活的许多方面，都有它活跃的舞台。将各种新型处理器逐渐应用到超声波电源中，使整个超声波系统具有优良稳定性、可靠性，并可集成多种功能，如频率跟踪、故障在线检测、远程控制、组网集中控制等。