超精密工业清洗之纳米工艺

超精密工业清洗之纳米工艺

当前，微电子技术已经发展到纳米工艺水平，90纳米的生产线已经在建设之中．通信设备中大量使用的波分复用光电子器件(DWDM)，分辨率要达到精确地分开和识别不同波长的光．这类产品的清洗要达到近乎完美的程度，残留污物的直径要在0.1nm左右．普通的电子显微镜已经难以观察到。超精密工业清洗必须在超级净化的环境中进行，需要使用超高纯度的清洗剂和DI水(去离子水)，以及高级清洗装置．除了部分简单设备外，目前我国尚没有企业能够提供该类技术和设备，基本依靠进口。