时间:2017-10-17 点击: 次 来源:网络 作者:无锡雷士 - 小 + 大
硅片的清洗在半导体制作过程中十分重要,而磨片的清洗是所有清洗工序中最困难的。由于使用了清洗机,通过物理渗透作用,使污染颗粒脱离硅片表面,再通过超声波清洗的机械作用和化学腐蚀作用,最终去除污染颗粒,达到了清洗硅片的目的。
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